《微細(xì)加工技術(shù)》雜志論文投稿要求是什么？

來源：愛發(fā)表網(wǎng)整理 2024-12-06 11:24:43

《微細(xì)加工技術(shù)》雜志論文投稿要求：

Ⅰ、作者姓名的漢語拼音應(yīng)姓前名后，姓氏全部字母為大寫，名字的首字母大寫，雙名中間不加連字符不間隔；漢語拼音的作者姓名寫在英文表示的工作單位之前；多位作者的署名之間以逗號(hào)隔開；不同單位的作者姓名右上角加注序號(hào)。

Ⅱ、來稿摘要應(yīng)包含正文的目的、主旨、結(jié)論。

Ⅲ、編輯部實(shí)行稿件三審制，周期三個(gè)月。三個(gè)月后未接到本刊采用通知，稿件即可自行處理。請(qǐng)自留底稿，因人力與經(jīng)費(fèi)有限，來稿一律不退。

Ⅳ、文稿中的小標(biāo)題請(qǐng)依次使用：一、二、三、……；（一）（二）（三）……；1.2.3.……；（1）（2）（3）……；①②③……。

Ⅴ、參考文獻(xiàn)應(yīng)依照引用的先后順序標(biāo)出，根據(jù)文獻(xiàn)類型與文獻(xiàn)載體代碼（GB 3469）規(guī)定，以單字母方式標(biāo)識(shí)以下各種參考文獻(xiàn)類型。

雜志發(fā)文主題分析如下：

機(jī)構(gòu)名稱	發(fā)文量	主要研究主題
中國(guó)科學(xué)院	192	光刻；電子束曝光；曝光機(jī)；電子束...
上海交通大學(xué)	129	微機(jī)電系統(tǒng)；電系統(tǒng)；機(jī)電系統(tǒng)；ME...
清華大學(xué)	60	微細(xì)；光刻；微細(xì)加工；離子束；聚...
中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)	47	刻蝕；離子束；離子束刻蝕；光刻；...
電子工業(yè)部	46	離子注入；注入機(jī)；離子注入機(jī)；半...
中國(guó)科學(xué)院微電子研究...	38	光刻；掩模；X射線光刻；電子束曝...
中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精...	34	光柵；MEMS；刻蝕；光刻；傳感
山東大學(xué)	29	電子束；電子束曝光；曝光機(jī)；電子...
山東工業(yè)大學(xué)	28	電子束曝光；曝光機(jī)；電子束曝光機(jī)...
華中理工大學(xué)	26	刻蝕；濺射；半導(dǎo)體；等離子體；離...